环球网记者李亮报道，中国国家新闻办公室于4月21日举行新闻发布会，介绍了2010年中国知识产权发展状况。有日本媒体报道称，从发布会公布的数字来看，中国已超过了日本，成为世界第二大专利申请国。
《日本产经新闻》4月22日报道，新闻会上，相关负责人宣布，2010年，中国专利申请数量同比增长24%，达391177件。这一公告确认了中国已超过日本，成为继美国之后的世界第二大专利申请国。此外，随着技术的进步，中国企业寻求专利权的比例不断增长。2010年，来自中国企业的专利申请占申请总数的74%。
报道称，十年前，中国的专利申请仅5万份，为日本的八分之一。在2005年前，日本一直位居专利申请数量之冠，但此后四年，数量不断减少。2009年，日本的专利申请同比减少10.8%，跌至348600份，而美国则有45万份。日本2010年专利申请的数据将于今年6月公布，预计低于35万份。
报道还称，基于成本及其它因素，中国申请专利比较容易，所以除了申请数目，无法对中日专利申请做一个综合的比较。
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